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第1题

在合成氨生产工艺中,为吸收H2中的CO杂质,不可选用的物质是-------------------------( ) A.[Cu(NH3)4](Ac)2 B.[Ag(NH3)2]+ C.[Cu(NH3)2]Ac D.[Cu(NH3
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第2题

某溶液中同时存在几种还原剂,若它们在标准态时都能与同一种氧化剂所氧化,此时影响氧化还原反应先后进行次序的因素是---------------------------------------------------------( ) A
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第3题

在离子晶体中,如果某离子可具有不同的配位数,则该离子半径随配位数的增加而 增加；-( ) A.不 B.减小 C.没有规律 D.增加
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第4题

关于[Cu(CN)4]3-的空间构型及中心离子的杂化类型叙述错误的是----------------------( ) A.平面正方形,d2sp3杂化 B.变形四边形,sp3d杂化 C.正四面体,sp3杂化 D.平面正方形,sp
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