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第1题

Langmuir 吸附模型基本假定为（ ）。
·催化剂表面活性中心的分布是均匀的
·吸、脱附活化能与表面覆盖率无关
·每个活性中心只能吸附一个分子
·吸附的分子之间互不影响
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第2题

产生爆炸的原因为（ ）。
·反应体积急剧膨胀造成压力猛增，超过设备能够承受的压力
·局部超温，使设备强度下降，在正常操作压力下爆炸
·超温造成设备应力增大
·设备腐蚀造成局部强度下降等
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第3题

如果一个操作点在受到扰动后能自行恢复，称为稳定操作点（ ）。
·正确
·错误
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第4题

返混很小的管式反应器，任何一个局部发生扰动，必然引起局部的温度变化（ ）。
·正确
·错误
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